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冷水機(jī)chiller系列
冷水機(jī)chiller

FerroTec溫控產(chǎn)品:冷水機(jī)Chiller、溫控器、冷盤、熱盤等

冷水機(jī)是一種用于提供冷卻水以降低設(shè)備或工藝過程中溫度的制冷設(shè)備。FerroTec(中國)冷水機(jī)能夠通過采用帕爾帖制冷片、壓縮機(jī)及直接換熱等方式為設(shè)備進(jìn)行降溫,確保工業(yè)生產(chǎn)的穩(wěn)定進(jìn)行,控溫范圍可達(dá)-100℃~200℃,能夠?qū)崿F(xiàn)最高±0.01℃的超高精度溫度控制,除冷水機(jī)單品外,還有自研溫控器、冷盤等配件與冷水機(jī)結(jié)合應(yīng)用,能夠?yàn)榘雽?dǎo)體制造、測(cè)試、激光、醫(yī)療、儲(chǔ)能、液冷等多領(lǐng)域提供專業(yè)溫控方案。
TEC式冷水機(jī)
TEC式冷水機(jī)的工作原理主要是基于帕爾帖(Peltier )效應(yīng),制冷功率目前系列產(chǎn)品為160W~2000W,控溫范圍為5℃~65℃,控溫精度最高可達(dá)0.01℃,包含水冷、風(fēng)冷、化學(xué)液體和集成式四大類,與傳統(tǒng)壓縮機(jī)制冷相比,性能穩(wěn)定,控溫精度更高,體積小巧,且系統(tǒng)封閉,搭配多功能報(bào)警系統(tǒng)、安全系統(tǒng)、數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)RS485/RS232、ETH、以太網(wǎng)等通訊方式的遠(yuǎn)程控制,也可根據(jù)具體需求選配定制機(jī)型。
TEC水冷冷水機(jī)
TEC水冷冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品制冷量為0.3kW~2kW,循環(huán)液溫度范圍為10~60℃,溫度穩(wěn)定性±0.01℃。無氟環(huán)保,無需使用制冷劑即可連續(xù)工作,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域中的涂膠顯影、刻蝕、薄膜沉積等設(shè)備中的電子元件溫度控制、通信系統(tǒng)元器件溫度控制,實(shí)驗(yàn)室中各種儀器儀表、檢測(cè)設(shè)備溫度控制及其他化工,激光,醫(yī)療,電鍍,真空設(shè)備,分子泵熱源冷卻。
TEC風(fēng)冷冷水機(jī)
TEC風(fēng)冷冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品制冷量為0.16kW-0.9kW,循環(huán)液溫度范圍為5~45℃,溫度穩(wěn)定性±0.02℃。體積小巧,風(fēng)冷靜音且穩(wěn)定性極佳,出水口控溫精度可達(dá)0.02℃,具備多重報(bào)警功能,適配廠家指定型號(hào)冷卻液,良好環(huán)境下性能指標(biāo)均高于國外同類型產(chǎn)品。主要應(yīng)用于半導(dǎo)體高精測(cè)試設(shè)備、醫(yī)療制藥設(shè)備、激光發(fā)生器等的溫度管理,保證客戶端設(shè)備長期運(yùn)行的穩(wěn)定性。
化學(xué)液體冷水機(jī)
化學(xué)液體冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品制冷量為0.35kW~1kW,循環(huán)液溫度范圍為10~60℃,溫度穩(wěn)定性±0.05℃,核心接觸件采用PFA材質(zhì),具有高純核心、耐腐蝕、快速換熱、低阻抗等優(yōu)點(diǎn)。對(duì)比同類產(chǎn)品,降溫功率更大,降溫速度更快,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓清洗、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)、芯片封裝、醫(yī)藥化工、LCD顯示面板制造設(shè)備的溫度管理。
集成式冷水機(jī)
集成式冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品制冷量為0.3kW*6臺(tái),循環(huán)液溫度范圍為10~60℃,溫度穩(wěn)定性±0.05℃。制冷通道數(shù)最高可疊加9通道,可實(shí)現(xiàn)多通道單獨(dú)控制需求。主要應(yīng)用于半導(dǎo)體相關(guān)設(shè)備,電鍍,真空設(shè)備冷卻。
TEC小型冷水機(jī)
TEC小型冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品制冷量為0.3kW~1.2kW,循環(huán)液溫度范圍為10℃~60℃,溫度穩(wěn)定性±0.05℃。無氟環(huán)保,無需使用制冷劑即可連續(xù)工作,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域中涂膠顯影、刻蝕、薄膜沉積等設(shè)備的溫度管理、電子元件溫度控制、通信系統(tǒng)元器件溫度控制,實(shí)驗(yàn)室中各種儀器儀表、檢測(cè)設(shè)備溫度控制及其他化工,激光,醫(yī)療,電鍍,真空設(shè)備,分子泵熱源冷卻。
分體式冷水機(jī)
分體式冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品制冷量為1.2kW-2kW,循環(huán)液溫度范圍為-20℃~90℃,溫度穩(wěn)定性±0.02℃,具備多重報(bào)警功能,適配廠家指定型號(hào)冷卻液,良好環(huán)境下性能指標(biāo)均高于國外同類型產(chǎn)品。主要應(yīng)用于半導(dǎo)體涂膠、刻蝕、薄膜沉積、清洗設(shè)備、半導(dǎo)體高精測(cè)試設(shè)備、醫(yī)療制藥設(shè)備、激光發(fā)生器等的溫度高精度管理,保證客戶端設(shè)備長期運(yùn)行的穩(wěn)定性。
壓縮機(jī)式冷水機(jī)
壓縮機(jī)式冷水機(jī)通過壓縮機(jī)制冷循環(huán)實(shí)現(xiàn)高效降溫。制冷功率為1kW~12kW,連續(xù)可控溫度范圍為:-100℃~200℃,控溫精度可達(dá)±0.1℃,該系列冷水機(jī)有風(fēng)冷、水冷兩種制冷模式,可實(shí)現(xiàn)單/雙通道獨(dú)立控溫,通過PID變頻算法實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)溫控,具有制冷能力強(qiáng)、適用范圍廣、運(yùn)行穩(wěn)定等優(yōu)勢(shì)。通常配備智能控制系統(tǒng),能夠精確調(diào)節(jié)溫度,具備故障報(bào)警功能,確保設(shè)備長期穩(wěn)定運(yùn)行。
風(fēng)冷高精度單通道冷水機(jī)
風(fēng)冷高精度單通道冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品性能穩(wěn)定,在長時(shí)間運(yùn)行中保持穩(wěn)定的制冷效果,采用PID算法精準(zhǔn)控溫。制冷量為10~20kW,循環(huán)液溫度范圍為5~40℃ ,溫度穩(wěn)定性±0.1℃。出水口控溫精度可達(dá)±0.1℃,內(nèi)置安全保護(hù),具有低噪音、省電、耐用等優(yōu)點(diǎn),并具備高低壓力、過載、水位等保護(hù)功能。
風(fēng)冷高精度雙通道冷水機(jī)
風(fēng)冷高精度雙通道冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品性能穩(wěn)定,在長時(shí)間運(yùn)行中保持穩(wěn)定的制冷效果,通過PID算法可實(shí)現(xiàn)多通道獨(dú)立控溫,具備單獨(dú)的溫度范圍、冷卻加熱能力、導(dǎo)熱介質(zhì)流量等。制冷量為10~20kW,循環(huán)液溫度范圍CH1通道:15~35℃; CH2通道:10~40℃ ,溫度穩(wěn)定性CH1通道:±0.1℃;CH2通道:±0.5℃。出水口溫度可為±0.1/±0.5℃,內(nèi)置安全保護(hù),具有低噪音、省電、耐用等優(yōu)點(diǎn),并具備高低壓力、過載、水位等保護(hù)功能。
水冷高精度冷水機(jī)A
水冷高精度冷水機(jī)A
該系列產(chǎn)品性能穩(wěn)定,在長時(shí)間運(yùn)行中保持穩(wěn)定的制冷效果,采用PID算法精準(zhǔn)控溫,制冷量為1.5~5kW,循環(huán)液溫度范圍5~40℃,溫度穩(wěn)定性±0.1℃。出水口控溫精度可達(dá)±0.1℃ ,內(nèi)置安全保護(hù),具有低噪音、省電、耐用等優(yōu)點(diǎn),并具備高低壓力、過載、水位等保護(hù)功能。
水冷高精度冷水機(jī)B
水冷高精度冷水機(jī)B
該系列產(chǎn)品性能穩(wěn)定,在長時(shí)間運(yùn)行中保持較為穩(wěn)定的制冷效果,采用PID算法精準(zhǔn)控溫 ,制冷量10kW,循環(huán)液溫度范圍5~40℃,溫度穩(wěn)定性±0.1℃。出水口控溫精度可達(dá)±0.1℃,內(nèi)置安全保護(hù),具有低噪音、省電、耐用等優(yōu)點(diǎn),并具備高低壓力、過載、水位等保護(hù)功能。
多級(jí)壓縮冷水機(jī)
多級(jí)壓縮冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品性能穩(wěn)定,單、雙通道均可實(shí)現(xiàn)單獨(dú)溫度控制,制冷量0.8~7kW,循環(huán)液溫度范圍-60~180℃,溫度穩(wěn)定性±0.1℃~±0.5℃。且在長時(shí)間運(yùn)行中保持較為穩(wěn)定的制冷效果,采用PID算法精準(zhǔn)控溫,出水口控溫精度可達(dá)±0.1℃,采用高可靠性品牌壓縮機(jī),具有低噪音、省電、耐用等優(yōu)點(diǎn)。
雙通道冷水機(jī)
雙通道冷水機(jī)
該系列產(chǎn)品性能穩(wěn)定,單、雙通道均可實(shí)現(xiàn)單獨(dú)溫度控制,制冷量2.2~4kW,循環(huán)液溫度范圍-20~80℃,溫度穩(wěn)定性±0.1℃。且在長時(shí)間運(yùn)行中保持較為穩(wěn)定的制冷效果,采用PID算法控制精確控溫,出水口溫度可為±0.1℃,采用高可靠性品牌壓縮機(jī),內(nèi)置安全保護(hù),具有低噪音、省電、耐用等優(yōu)點(diǎn)。
其他產(chǎn)品
直接換熱式冷水機(jī)

該系列產(chǎn)品通過冷卻介質(zhì)與被冷卻對(duì)象直接接觸來實(shí)現(xiàn)降溫。具有傳熱效率高,結(jié)構(gòu)緊湊簡(jiǎn)潔、節(jié)能高效、密封性高等優(yōu)勢(shì)。主要應(yīng)用于需要高效、快速冷卻的應(yīng)用場(chǎng)景,如實(shí)驗(yàn)室儀器、醫(yī)療設(shè)備、工業(yè)生產(chǎn)線等。產(chǎn)品具備多場(chǎng)景適配能力,支持產(chǎn)品定制,搭配多種分流器,滿足客戶的制冷需求。

其他產(chǎn)品

其他產(chǎn)品

FerroTec自主研發(fā)生產(chǎn)的溫控器、冷盤等新型產(chǎn)品。一般與冷水機(jī)結(jié)合應(yīng)用,可為更多行業(yè)場(chǎng)景提供專業(yè)的溫控方案。
【冷盤】:該系列產(chǎn)品是一種用于冷卻電子設(shè)備或其他發(fā)熱組件的熱傳導(dǎo)裝置。常溫款正常工作控制溫度為23℃,精度可達(dá)±0.1℃,低溫款最低溫度可達(dá)-15℃。由于導(dǎo)熱介質(zhì)的不同,可分為TEC式制冷盤體和水冷盤體。主要應(yīng)用半導(dǎo)體設(shè)備的加熱環(huán)節(jié),例如涂膠、去膠、鍵合等使用場(chǎng)景。
【熱盤】:該系列產(chǎn)品材質(zhì)采用不銹鋼、鋁合金、陶瓷,溫度范圍可為50℃~600℃區(qū)間,控溫精度可達(dá)±0.1℃,90℃以內(nèi)均溫性最高可達(dá)±0.2℃,可根據(jù)客戶端設(shè)備需要與冷盤、溫控器等裝置配套使用,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備的加熱環(huán)節(jié),例如涂膠、顯影、去膠、鍵合等場(chǎng)景。
【溫控器】:該系列產(chǎn)品是一種用于自動(dòng)調(diào)節(jié)和控制溫度的設(shè)備或系統(tǒng)。主要應(yīng)用于半導(dǎo)體相關(guān)設(shè)備,電子元件溫度控制、通信系統(tǒng)元器件溫度控制,實(shí)驗(yàn)室中各種儀器儀表、檢測(cè)設(shè)備溫度控制及其他化工,激光,醫(yī)療,電鍍,真空設(shè)備,分子泵的熱源冷卻。
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冷水機(jī)產(chǎn)品介紹手冊(cè)(中文版)
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C站式服務(wù)
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定制開發(fā)
定制開發(fā)
多種方案
多種方案
精準(zhǔn)控溫
精準(zhǔn)控溫
品類豐富
品類豐富
為什么選擇我們?
FerroTec熱電事業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)并銷售不同制冷量的冷水機(jī)、氣流儀、溫控器和冷盤等產(chǎn)品。壓縮機(jī)式冷水機(jī)控精度可達(dá)±0.1°C,半導(dǎo)體式冷水機(jī)控溫精度可達(dá)±0.01℃。有單臺(tái)冷水機(jī);溫控器+冷盤;冷水機(jī)+冷盤;溫控器+冷盤+冷水機(jī)多種溫控組合方案供客戶選擇。產(chǎn)品支持定制化開發(fā):包含更換參數(shù)零部件,增加配件、功能,滿足特殊尺寸需求。設(shè)計(jì)、銷售和售后服務(wù)覆蓋全球50+網(wǎng)點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)48h內(nèi)快速響應(yīng)。
應(yīng)用場(chǎng)景
  • 液冷
    液冷
  • 儲(chǔ)能
    儲(chǔ)能
  • 醫(yī)療
    醫(yī)療
  • 激光
    激光
  • 測(cè)試
    測(cè)試
  • 半導(dǎo)體薄膜沉積
    半導(dǎo)體薄膜沉積
  • 半導(dǎo)體清洗
    半導(dǎo)體清洗
  • 半導(dǎo)體刻蝕
    半導(dǎo)體刻蝕
  • 半導(dǎo)體涂膠顯影
    半導(dǎo)體涂膠顯影
  • 半導(dǎo)體晶圓制造
    半導(dǎo)體晶圓制造
液冷
實(shí)現(xiàn)AI芯片、浸沒式芯片的冷卻。主要包含AI芯片/浸沒式芯片控溫,能夠降低芯片計(jì)算使用過程中導(dǎo)致的高溫問題。
儲(chǔ)能
實(shí)現(xiàn)整體儲(chǔ)能電池組件、電氣組件使用時(shí)的冷卻。主要包含整體儲(chǔ)能電池組件、電氣組件的溫度控制。
醫(yī)療
實(shí)現(xiàn)核磁共振、醫(yī)藥制劑、激光美容等設(shè)備的冷卻。主要包含核磁共振、醫(yī)藥制劑、激光美容等設(shè)備的溫度控制。
激光
實(shí)現(xiàn)激光光源的冷卻,包含激光打標(biāo)、激光焊接、激光切割、光纖激光器等激光設(shè)備的器件控溫使用。實(shí)際降溫環(huán)節(jié)主要帶走設(shè)備激光源所產(chǎn)生的熱量,更好的保證光源的穩(wěn)定輸出。
測(cè)試
實(shí)現(xiàn)三溫檢測(cè)設(shè)備的控溫,以氣冷,液冷等形式針對(duì)盤體、腔體進(jìn)行控溫,完成對(duì)光通訊模塊、探針臺(tái)、封裝芯片測(cè)試等涉及三溫測(cè)試的模塊測(cè)試。
半導(dǎo)體薄膜沉積
精準(zhǔn)控制沉積溫度,確保設(shè)備溫度處于穩(wěn)定值,提高沉積效率和質(zhì)量,并保證沉積系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行。
半導(dǎo)體清洗
實(shí)現(xiàn)清洗過程中的精準(zhǔn)溫控,從而提升清洗效率和精度,確保晶圓表面潔凈。
半導(dǎo)體刻蝕
實(shí)現(xiàn)刻蝕過程中的精準(zhǔn)溫控,保證刻蝕的穩(wěn)定性和一致性。
半導(dǎo)體涂膠顯影
實(shí)現(xiàn)涂膠顯影過程中水冷板,顯影液,噴頭等器件的管路控溫。
半導(dǎo)體晶圓制造
實(shí)現(xiàn)晶圓制造過程中CMP設(shè)備、CMP研磨盤體、清洗模組腔體等設(shè)備大功率器件的降溫。
液冷
液冷
實(shí)現(xiàn)AI芯片、浸沒式芯片的冷卻。主要包含AI芯片/浸沒式芯片控溫,能夠降低芯片計(jì)算使用過程中導(dǎo)致的高溫問題。
儲(chǔ)能
儲(chǔ)能
實(shí)現(xiàn)整體儲(chǔ)能電池組件、電氣組件使用時(shí)的冷卻。主要包含整體儲(chǔ)能電池組件、電氣組件的溫度控制。
醫(yī)療
醫(yī)療
實(shí)現(xiàn)核磁共振、醫(yī)藥制劑、激光美容等設(shè)備的冷卻。主要包含核磁共振、醫(yī)藥制劑、激光美容等設(shè)備的溫度控制。
激光
激光
實(shí)現(xiàn)激光光源的冷卻,包含激光打標(biāo)、激光焊接、激光切割、光纖激光器等激光設(shè)備的器件控溫使用。實(shí)際降溫環(huán)節(jié)主要帶走設(shè)備激光源所產(chǎn)生的熱量,更好的保證光源的穩(wěn)定輸出。
測(cè)試
測(cè)試
實(shí)現(xiàn)三溫檢測(cè)設(shè)備的控溫,以氣冷,液冷等形式針對(duì)盤體、腔體進(jìn)行控溫,完成對(duì)光通訊模塊、探針臺(tái)、封裝芯片測(cè)試等涉及三溫測(cè)試的模塊測(cè)試。
半導(dǎo)體薄膜沉積
半導(dǎo)體薄膜沉積
精準(zhǔn)控制沉積溫度,確保設(shè)備溫度處于穩(wěn)定值,提高沉積效率和質(zhì)量,并保證沉積系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行。
半導(dǎo)體清洗
半導(dǎo)體清洗
實(shí)現(xiàn)清洗過程中的精準(zhǔn)溫控,從而提升清洗效率和精度,確保晶圓表面潔凈。
半導(dǎo)體刻蝕
半導(dǎo)體刻蝕
實(shí)現(xiàn)刻蝕過程中的精準(zhǔn)溫控,保證刻蝕的穩(wěn)定性和一致性。
半導(dǎo)體涂膠顯影
半導(dǎo)體涂膠顯影
實(shí)現(xiàn)涂膠顯影過程中水冷板,顯影液,噴頭等器件的管路控溫。
半導(dǎo)體晶圓制造
半導(dǎo)體晶圓制造
實(shí)現(xiàn)晶圓制造過程中CMP設(shè)備、CMP研磨盤體、清洗模組腔體等設(shè)備大功率器件的降溫。
Matrix diagram of applications in various fields
各領(lǐng)域的應(yīng)用之矩陣圖
半導(dǎo)體相關(guān)
冷水機(jī)chiller系列

半導(dǎo)體芯片加工過程熱管理;

涂膠顯影設(shè)備溫度管理;

刻蝕機(jī)溫度管理;

清洗設(shè)備溫度管理;

CVD、PVD、ALD溫度管理;

LCD面板加工設(shè)備溫度管理;

激光器溫度管理;

激光加工設(shè)備溫度管理;

激光切割設(shè)備溫度管理;

激光焊接設(shè)備溫度管理;

儲(chǔ)能系統(tǒng)溫度管理;

液冷系統(tǒng)溫度管理;

光伏組件加工設(shè)備溫度管理;

動(dòng)力電池溫度管理;

電機(jī)運(yùn)行溫度管理;

電控系統(tǒng)溫度管理;

高鐵牽引機(jī)溫度管理;

高鐵制冷系統(tǒng)冷卻;

醫(yī)療設(shè)備溫度管理;

該產(chǎn)品的生產(chǎn)基地